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深圳市矢量科學儀器有限公司

  • 化學機械拋光機CMP

    化學機械拋光機CMP簡介：1. 該化學機械拋光機可用于各類半導(dǎo)體集成電路、氧化物、金屬、STI、SOI等產(chǎn)品的CMP平坦化拋光。 通過更換拋光頭可兼容4、6、8...
    型號： customize... 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 17:04:26 對比

  • 劃片機

    精密劃片機，劃片機簡介：半導(dǎo)體晶圓、集成電路、QFN、發(fā)光二極管、LED芯片、太陽能電池、電子基片等的劃切，適用于包括硅、石英、陶瓷、氧化鋁、氧化鐵、砷化鎵、鈮...
    型號： customize... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 16:50:42 對比

  • CMP后清洗機

    CMP后清洗機 簡介：該系列設(shè)備是晶圓CMP后的專用清洗設(shè)備，有單工位、轉(zhuǎn)位式、連線式等不同結(jié)構(gòu)，以適用不同應(yīng)用場景，其中連線式設(shè)備加配全自動上下片系統(tǒng)。該系列...
    型號： customize... 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 16:48:45 對比

  • 減薄機

    減薄機 簡介：1. 可根據(jù)客戶需求定制化各類工作臺，滿足各類半導(dǎo)體材料的研削薄化工藝2. 最大晶圓尺寸：8英寸3. 砂輪規(guī)格：Ø203(OD)mm4....
    型號： customize... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 16:35:54 對比

  • 半導(dǎo)體研磨拋光機

    半導(dǎo)體研磨拋光機是一款操作簡單的桌面型單面拋光設(shè)備，可搭配銅盤、錫盤、玻璃盤、不銹鋼盤等，配合不同類型的拋光液，適用于各種半導(dǎo)體材料的研磨拋光，滿足科研院校、企...
    型號： customize... 所在地：德國 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 16:28:32 對比

  • 中央供藥系統(tǒng)

    中央供藥系統(tǒng)簡介：1.用于廠內(nèi)供藥，通過該系統(tǒng)可以按照設(shè)定的配比，將特定的藥液通過相應(yīng)的管路供應(yīng)到制程中。2.該系統(tǒng)供藥配比精確，配方可根據(jù)客戶需要進行編輯確認...
    型號： customize... 所在地：蘇州市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 16:19:03 對比

  • 全自動SCRUBBER清洗機

    全自動SCRUBBER清洗機 簡介：?清洗機可以用于對晶圓表面，背面及晶圓邊緣的清洗，通過創(chuàng)新研發(fā)的二流體噴嘴技術(shù)可將附著在晶圓表面的細微顆粒污染物去除。通過大...
    型號： customize... 所在地：上海市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 16:07:41 對比

  • 紫外線臭氧清洗機

    UV-300H是一款高性能的緊湊型紫外線臭氧清洗機。通過滑動抽屜將基材裝入系統(tǒng)中。紫外線照射、高濃度臭氧和階段性加熱的組合，可溫和而有效地去除硅、玻璃、化合物半...
    型號： UV-300H 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 15:39:31 對比

  • 紫外線臭氧清洗機

    UV-1是一款緊湊型臺式紫外線臭氧清洗機。該系統(tǒng)將紫外線照射、臭氧和平臺加熱結(jié)合在一起，溫和而有效地去除硅、玻璃、化合物半導(dǎo)體（GaN、GaAs、InP、SiC...
    型號： UV-1 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 15:30:45 對比

  • 全自動CMP拋光機

    全自動CMP拋光機是一款針對薄膜（介質(zhì)層）的全自動拋光設(shè)備，操作便捷，兼容性強，通過更換拋光壓頭實現(xiàn)不同尺寸晶圓的兼容，采用自動化裝片方式，機械手自動取放片，同...
    型號： TPC-2110 所在地：北京市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 15:27:31 對比

  • 等離子清洗設(shè)備

    PC-300等離子清洗設(shè)備是一種平行板式等離子清洗機，用于清洗樣品表面的有機和無機污染。該工藝室允許用戶安裝多個電架，架式電配置的靈活性支持從研究到小批量生產(chǎn)的...
    型號： PC-300 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 15:27:23 對比

  • CMP拋光機

    CMP拋光機是一款針對薄膜（介質(zhì)層）的拋光設(shè)備，操作便捷，兼容性強，通過更換拋光壓頭實現(xiàn)不同尺寸晶圓的兼容，采用手動裝片方式，可配置半自動loading系統(tǒng)，氣...
    型號： TMP-150A/... 所在地：北京市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 15:23:56 對比

  • cmp拋光機

    POLI-400Lcmp拋光機是4&6英寸小型化學機械拋光機，采用手動裝片方式，氣囊薄膜柔性加壓，可配置摩擦力&溫度終點監(jiān)控系統(tǒng)，用于氧化物、金屬、STI、SO...
    型號： POLI-400L 所在地：北京市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 15:17:26 對比

  • CMP拋光機

    POLI-500是小型8英寸CMP機臺，采用手動裝片方式，可選配半自動loading托盤，氣囊薄膜柔性加壓，可配置摩擦力&溫度終點監(jiān)控系統(tǒng)，用于氧化物、金屬、S...
    型號： POLI-500 所在地：北京市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 15:16:20 對比

  • CMP拋光機

    POLI-762是小型12英寸CMP機臺，采用手動裝片方式，可選配半自動loading托盤，氣囊薄膜柔性加壓，可配置摩擦力&溫度終點監(jiān)控系統(tǒng)，用于氧化物、金屬、...
    型號： POLI-762 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 15:15:12 對比

  • LSA 101 激光尖峰退火設(shè)備

    LSA 101 激光尖峰退火設(shè)備 系統(tǒng)安裝的 IDM 和晶圓代工廠，是大批量制造 40nm 至 140nm 節(jié)點的先進邏輯器件的技術(shù)。LSA 101 的掃描技術(shù)...
    型號： 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 15:13:03 對比

  • 離子注入機

    離子注入機是高壓小型加速器中的一種，應(yīng)用數(shù)量最多。它是由離子源得到所需要的離子，經(jīng)過加速得到幾百千電子伏能量的離子束流，用做半導(dǎo)體材料、大規(guī)模集成電路和器件的離...
    型號： customize... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 14:25:56 對比

  • 快速退火爐RTP

    快速退火爐RTP主要功能：快速熱退火，快速熱氧化，快速熱氮化，擴散，化合物半導(dǎo)體退火，離子注入后退火，電極合金化等。樣片尺寸：8inch，向下兼容，支持不規(guī)整樣...
    型號： customize... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 14:21:08 對比

  • 電鍍設(shè)備

    電鍍設(shè)備 應(yīng)用領(lǐng)域：Pillar，Bump，RDL，TSV等工藝 (3) 設(shè)備配置： 最多3個loadport ; 最多24個電鍍腔體：Cu、Ni、Sn/Ag、...
    型號： customize... 所在地：蘇州市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 14:17:52 對比

  • 激光退火設(shè)備

    半導(dǎo)體激光退火機是用于半導(dǎo)體制造過程中的一種設(shè)備。退火是一種熱處理過程，通過加熱半導(dǎo)體材料來改變其性質(zhì)，以實現(xiàn)所需的特性，如電導(dǎo)率、晶體結(jié)構(gòu)和應(yīng)力緩解。半導(dǎo)體激...
    型號： customize... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 14:14:17 對比
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